Halbleiter

Vakuumpumpen sind in der Halbleiterherstellung von entscheidender Bedeutung und werden für verschiedene Zwecke eingesetzt:

• Evakuierung: Vakuumpumpen werden verwendet, um Luft und andere Gase aus den Produktionsanlagen und -kammern zu entfernen. In der Halbleiterherstellung ist ein hochreines Vakuum erforderlich, um Verunreinigungen zu vermeiden, da selbst geringfügige Verunreinigungen die Qualität der hergestellten Halbleiterchips beeinträchtigen können.
• Dünnschichtabscheidung: Bei der Dünnschichtabscheidung, wie beispielsweise der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) oder der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), werden Vakuumpumpen verwendet, um den Druck in den Beschichtungskammern zu senken. Dadurch wird ein kontrollierter Prozess ermöglicht, bei dem dünne Schichten von Materialien auf den Wafer aufgebracht werden.
• Ätzprozesse: Vakuumpumpen werden auch bei Ätzprozessen eingesetzt, bei denen bestimmte Bereiche des Wafers gezielt entfernt werden, um Schaltkreise und Strukturen zu formen. Durch den Einsatz von Vakuum wird gewährleistet, dass die Prozessgase effizient abgeführt werden und eine gleichmäßige Ätzung stattfindet.
• Ionenimplantation: Bei der Ionenimplantation werden Vakuumpumpen verwendet, um den Druck in den Beschleunigerröhren und Implantationskammern aufrechtzuerhalten. Dabei werden Ionen in den Wafer eingeschossen, um bestimmte Eigenschaften und Dotierungen einzuführen.
• Wartung und Reinigung: Vakuumpumpen werden auch verwendet, um die Produktionsanlagen und -kammern von Rückständen und Verunreinigungen zu reinigen. Dies gewährleistet die Sauberkeit der Anlagen und die Qualität der hergestellten Halbleiter.

Insgesamt sind Vakuumpumpen ein wesentlicher Bestandteil der Halbleiterherstellung, da sie den erforderlichen Druck und das Vakuum für verschiedene Prozesse bereitstellen, die zur Produktion hochwertiger und zuverlässiger Halbleiterchips erforderlich sind.